资讯 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 用于铝表面溅射沉积 ZrN 薄膜 01-12

资讯 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 辅助磁控溅射沉积 Cu-W 膜 01-11

资讯 Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 用于陶瓷基片银薄膜减薄 01-08

资讯 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 溅射制备类金刚石 Ta-C 涂层 01-07

资讯 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 溅射制备堵片传感器薄膜 01-06

资讯 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 应用于 AlTiN 涂层研究 01-05

资讯 伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 溅射制备 VO2 薄膜 01-04

资讯 KRI 考夫曼射频离子源 RFCIP220 制备高性能光通信带通滤光膜 12-30

资讯 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 溅射制备 MnGe 量子点 12-29

资讯 KRI 考夫曼射频离子源 RFCIP380 溅射镀制 TC4 表面 TiN 涂层 12-28

资讯 KRI 考夫曼射频离子源 RFCIP220 辅助溅射制备 LaF3 薄膜 12-25

资讯 KRI 考夫曼聚焦射频离子源 RFICP380 辅助制备原子探针样品 12-24

资讯 Hakuto 离子蚀刻机 10IBE 用于制作闪耀罗兰光栅 12-23

资讯 hakuto 离子刻蚀机 7.5IBE 用于氮化硅刻蚀工艺研究 12-22

资讯 hakuto 离子刻蚀机运用于 PDMS 软刻蚀用母模板研究 12-21

资讯 KRI RFICP325 离子源已成功应用在塑料光学镜头应用 12-18

资讯 hakuto 离子刻蚀机 10IBE 制作DNA芯片模板 12-16

资讯 hakuto 离子刻蚀机 20IBE 刻蚀滤波器钽酸锂晶片 12-14

资讯 hakuto 离子刻蚀机 10IBE 用于多晶黑硅损伤去除与钝化性能研究 12-11

资讯 hakuto 离子刻蚀机 7.5IBE 用于芯片制造中厚铝刻蚀 12-10

资讯 Hakuto 离子蚀刻机 10IBE 运用于铁电薄膜研究 12-09

资讯 Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-C 用于蚀刻 KDP 晶体 12-08

资讯 Hakuto 全自动离子刻蚀机 MEL3100用于蚀刻覆铜板 12-07

资讯 Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 用于光学器件精密加工 12-04

资讯 Hakuto 离子蚀刻机 20IBE 去除印刷电路板污染物 12-02