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产品简介

ASML 4022.502.64809

产品价格：￥

上架日期：2025-02-15 19:17:01

产地：国外国外

发货地：全国全国

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详细说明

ASML 4022.502.64809

：技术参数与性能优势

ASML作为全球领先的光刻设备供应商，其产品一直备受半导体行业的关注。ASML 4022.502.64809作为其产品线中的一员，以其卓越的技术参数和性能优势，在芯片制造过程中发挥着重要作用。

基本信息

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型号：ASML 4022.502.64809

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类型：光刻设备

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制造商：ASML（荷兰）

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生产日期：2024年

技术参数

光源系统 - 光源类型：极紫外光（EUV） - 波长：13.5纳米（nm） - 光源功率：250瓦（W）

光学系统 - 数值孔径（NA）：0.33 - 分辨率：小于10纳米（nm） - 投影透镜：采用先进的折射式光学系统

工作台系统 - 精度：亚纳米级 - 最大载片尺寸：300毫米（mm） - 对准精度：优于1纳米（nm）

曝光系统 - 曝光方式：步进扫描式 - 扫描速度：500毫米/秒（mm/s） - 曝光剂量控制：高精度剂量控制，误差小于1%

环境控制 - 温度稳定性：±0.001°C - 振动控制：采用主动隔振系统，确保工作环境稳定

性能优势

高分辨率：凭借EUV光源和先进的光学系统，ASML 4022.502.64809能够实现小于10纳米的分辨率，满足先进制程的需求。

高精度：工作台系统和对准系统的精度均达到了亚纳米级，确保了芯片制造过程中的高精度要求。

高效率：快速的扫描速度和高效的剂量控制，使得该设备能够在短时间内完成大量芯片的制造任务。

稳定性：严格的环境控制，确保了设备在长时间运行中的稳定性和可靠性。

灵活性：能够兼容多种材料和工艺，满足不同客户的需求。

应用领域

ASML 4022.502.64809广泛应用于半导体制造领域，特别是在7纳米及以下制程的芯片制造中。其高分辨率和高精度使其在逻辑芯片、存储芯片以及高性能计算芯片的制造中发挥着不可替代的作用。

结语

ASML 4022.502.64809以其卓越的技术参数和性能优势，成为了半导体制造行业中的重要设备。其高分辨率、高精度以及高效率等特点，使得该设备在先进制程的芯片制造中占据了重要地位。未来，随着半导体技术的不断发展，ASML 4022.502.64809将继续为芯片制造业带来新的突破和进步。

联系人：吴经理手机：18596688429（微信同号）邮箱：841825244@qq.com

ASML 4022.502.64809

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