创意电子运用Cadence Encounter数字设计实现方案解决了在16FF+上出现的设计挑战，包括增加的双重成像和FinFET设计规则检验（DRC）、时序和功耗变化以及处理量的要求。Encounter系统还具备以下优势：

　　· 正确的架构、完整的双重成像和涵盖平面规划、配置以及电子和物理签收的路径的FinFET流程

　　· 和Cadence的Litho物理分析仪、CMP预报器的无缝整合，组成可制造设计（design-for-Manufacturing， DFM）

　　· 采用大量并行处理的多线程GigaOpt和NanoRoute技术，有效处理增加的DRC规则和设计尺寸。

　　· 提升SoC性能和功耗的的GigaOpt先进芯片上变异（advanced on chip variation， AOCV）和线路驱动技术。

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