此次开发主要解决了在半导体晶圆上形成热电薄膜、触媒膜、电极、配线及加热器的传感器元件制造技术。同时,还提高了传感器的耐用性,降低了生产成本。作为热电转换元件的关键技术,确立了利用溅射蒸镀法形成SiGe膜之后进行热处理的薄膜成形技术。因为SiGe热电转换材料的热电特性高,非常适宜采用半导体工艺。为了使触媒不受大气中水蒸汽的影响而稳定地发挥作用,温度要维持在100℃。作为维持触媒温度的加热器集成技术,采用MEMS技術研制出隔热性很高的微加热器。将热电图、微加热器、触媒3个组成要素集成到了尺寸约为1×2mm2的薄膜上,制成了尺寸为4×4mm2的传感器芯片。
在以陶瓷为支撑材料的铂触媒耐用性试验中,将新开发的微型热电式氢气传感器放置在相对温度约为65%的室温环境中,持续工作了3个月,在此期间对它对100ppm,1000ppm和1%氢气浓度的反应特性进行了测试。结果证实,性能十分稳定。此次采用普通半导体工艺,就将微型传感器集成到了硅底板上,因此该公司认为,将来还可集成处理传感器信号的电子线路,因此便于小型化,以及通过量产降低生产成本,实用潜力很大。
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1756-L55M13
1756-CNB
1756-CNBR
1756-ENBT
1756-L62
1756-OB16I
1756-PA72
1756-IB16
1756-L63
1756-M14
1756-RM
1756-OF8
1756-BATM
1756-DHRIO
1756-DNB
1756-IT6I
1756-L55
1756L55M16
1756L55M22
1756L55M23
1756-L61
1756-M08SE
1756-M12
1756-OB32
1756-OF4
1756-IF16
1756-A17
1756-HSC
1771 1771-OBN
1771-IVN
1771-ASB
1771-OFE2
1771-OZ
1771-NC6
1771-IDOI
1771-IR
1771-NIS
1771-OVN
1746 1746-IB32
1746-OB16E
1746-NI8
1746-NO4I
1746-IB16
1746-P2
1746-P4
1746-P3
1746-NR8
1746-NI16I
1785 1785-L40B
1785-L30B
1785-L60B
1785-LT
1785-L20B
1785-L30A
1785-L60L
1785-L80B
1785-L80E
1785-V40L
1785-V80B
1747 1747-L524
1747-ASB
1747-L514
1747-SDN
1747-L551
1747-L553
1747-514
1747-L543
1784 1784-KTX
1784-PKTX
1784-PCMK
1784-PKTXD
1784-KTXD
1336 1336-B025-AA-EN-GM1
1336-BDB-SP390
1336F-B030-AN-EN
1336-L4
1336-MOD-L2
1336-PB-SP2B
1769 1769-IQ32