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伯东 KRI离子源应用于 LED-DBR 离子辅助镀膜市场
伯东 KRI离子源应用于 LED-DBR 离子辅助镀膜市场
产品价格:¥1
上架日期:2020-06-09 17:34:46
产地:美国
发货地:本地至全国
供应数量:不限
最少起订:1台
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详细说明

    上海伯东美国 KRI 考夫曼离子源成功应用于 LED-DBR 离子辅助镀膜市场国内某知名 LED 制造商经过我司推荐采用考夫曼离子源 RFICP 325 安装在 DBR 生产设备 1650 mm 蒸镀机中.


    考夫曼离子源客户案例国内某知名 LED 制造商
    1. 离子源
    应用: LED-DBR 镀膜生产
    2. 
    系统功能: 1650 mm 尺寸电子枪蒸镀镀膜机.
    3. 
    离子源采用美国考夫曼离子源 KRi RFICP 325. 离子源 RFICP 325 提供的离子束(不论是离子能量还是离子密度)均是目前业界最高等级离子源 RFICP 325 特殊的栅极设计 E22 Grided 可以涵盖 1650 mm 尺寸的蒸镀机中大范围的载具 substrate holder, 无论是生产良率或是均匀性都可达到最高生产效能.
    4. 离子源
    功能通过考夫曼离子源 RFICP 325 实现离子辅助镀膜 IBAD 及预清洁 Pre-clean 功能后所生产出的 LED-DBR 无论是亮度测试脱膜测试顶针测试光学特性等等… 都优于目前一般业界蒸镀机所搭配的离子源.
    上海伯东考夫曼离子源安装案例KRI RFICP 325 考夫曼离子源安装于 1650 mm 尺寸电子枪蒸镀镀膜机.
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    QQ图片20200609171348.png

    KRI 考夫曼离子源测试案例: LED-DBR 脱膜测试.
    1. 
    在高倍显微镜下检视脱膜测试
    QQ图片20200609171400.png 
    2. 
    测试结果
    QQ图片20200609171410.png

    --------- 使用其他品牌离子源---     --------------------- 使用美国考夫曼 KRI RFICP 325 离子源 ----------------------

    从上图可以清楚看出使用其他品牌离子源样品存在崩边的问题使用上海伯东美国考夫曼离子源样品无崩边
     

    上海伯东美国考夫曼离子源 KRI  RFICP 325 优点:
    高离子浓度高离子能量离子束涵盖面积广
    镀膜均匀性佳提高镀膜品质
    模块化设计保养快速方便
    增加薄膜附着性增加光学膜后折射率
    全自动控制设计操作简易
    低耗材成本安装简易
    上海伯东是美国考夫曼离子源 Kaufman & Robinson, Inc  中国总代理美国考夫曼公司离子源已广泛应用于离子溅射镀膜 IBSD. 考夫曼离子源可控制离子的强度及浓度使溅射时靶材被轰击出具有中和性材料分子而获得高致密高质量之薄膜考夫曼离子源可依客户溅射工艺条件选择 RFICP 射频电源式考夫曼离子源或是 KDC 直流电原式考夫曼离子源.

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