镀膜是当光线进入不同传递物质时(如由空气进入玻璃)，大约有5％会被反射掉，在光学瞄准镜中有许多透镜和折射镜，整个加起来可以让入射光线损失达30％至40％。现代光学透镜通常都镀有单层或多层氟化镁的增透膜，单层增透膜可使反射减少至1.5％，多层增透膜则可让反射降低至0.25％，所以整个瞄准镜如果加以适当镀膜，光线透穿率可达95％。镀了单层增透膜的镜片通常是蓝紫色或是红色，镀多层增透膜的镜片则呈淡绿色或暗紫色。

但是，目前市面上在对手机壳镀膜处理前对手机壳进行预处理的方式并不完善，导致手机壳在镀膜后容易出现镀膜不均匀的情况，镀膜较薄处容易在手机壳的使用途中产生划痕，而且碰撞时，镀膜较薄处更容易变形。

因此，湖南某知名手机镀膜制造商希望通过采用离子源辅助镀膜机来改善手机壳镀膜的质量，提高生产率。经过我司推荐采用大尺寸KRI 考夫曼离子源 EH 5500 安装于生产设备 2050 mm 蒸镀机中, 实现 LED-DBR 离子辅助镀膜，大大提高了镀膜质量和提高生产率。

KRI 考夫曼离子源客户案例: 国内某知名手机镀膜制造商
1. 离子源应用: 手机壳颜色镀膜.
2. 系统功能: 2050 mm 尺寸电子枪蒸镀镀膜机.
3. 离子源: 采用美国KRI 考夫曼离子源 KRi EH 5500. 离子源 EH 5500 提供的离子束 (不论是离子能量还是离子密度) 均是目前业界最高等级, 离子源 EH 5500 大尺寸的离子枪本体设计所产生超广角的离子束涵盖面积及高均匀度的离子浓度分布可以涵盖 2050 mm 尺寸的蒸镀机中大范围的载具 (substrate holder), 无论是生产良率或是均匀性都可达到最高生产效能.
4. 离子源功能: 通过 KRI EH 5500 霍尔源实现离子辅助镀膜 IBAD 及预清洁 Pre-clean 功能后, 所生产出的手机壳颜色镀膜及 3D 玻璃镀膜无论是环境脱膜测试, 耐刮测试, 膜层应力测试等等… 都优于目前一般业界蒸镀机所搭配的离子源.

上海伯东美国 KRI 霍尔离子源 EH 5500 优点:
1.离子浓度, 高离子能量, 离子束涵盖面积广
2.气体分子离子转化率高, 离子束工作稳定
3.镀膜均匀性佳, 提高镀膜品质
4.模块化设计, 保养快速方便
5.增加薄膜附着性, 增加光学膜后折射率
6.全自动控制设计, 操作简易
7.低耗材成本, 安装简易

                   EH 5500 离子源本体
       

              EH 5500 离子源控制器

上海伯东是美国KRI 考夫曼离子源 Kaufman & Robinson, Inc  中国总代理. 美国KRI 考夫曼公司离子源已广泛应用于离子溅射镀膜 IBSD. KRI 考夫曼离子源可控制离子的强度及浓度, 使溅射时靶材被轰击出具有中和性材料分子而获得高致密, 高质量之薄膜. KRI 考夫曼离子源可依客户溅射工艺条件选择 RFICP 射频电源式KRI 考夫曼离子源或是 KDC 直流电原式KRI 考夫曼离子源.