案例一: KRI霍尔离子源辅助真空蒸发镀膜, 用于镀件表面清洁
真空蒸发镀膜是在真空条件下, 加热蒸发物质使之气化并沉淀在基片表面形成固体薄膜.
真空蒸发镀膜的基本工艺流程: 镀前准备→抽真空→离子轰击→烘烤→预熔→蒸发→取件→膜层表面处理→成品
真空蒸发镀膜的工艺流程图
真空蒸发镀膜的工艺流程中, 就是由KRI霍尔离子源产生的离子轰击进行镀件表面清洁的离子
案例二: KRI 射频离子源辅助磁控溅射镀膜
磁控溅射镀膜原理：电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞, 电离出大量的氩离子和电子, 电子飞向基片. 氩离子在电场的作用下加速轰击靶材, 溅射出大量的靶材原子, 呈中性的靶原子（或分子）沉积在基片上成膜.
磁控溅射镀膜工艺流程图
KRI 射频离子源主要是用在磁控溅射镀膜工艺的第五步, 对靶材进行轰击.
使用伯东 KRI 离子源用于辅助5G技术-陶瓷手机盖板镀膜, 保证陶瓷手机盖板镀膜的质量, 提高生产率.
通过市场证明, KRI离子源实现离子辅助镀膜 IBAD 及预清洁 Pre-clean 功能后, 所生产出的陶瓷手机盖板镀膜无论是环境脱膜测试, 耐刮测试, 膜层应力测试等等… 都优于目前一般业界蒸镀机所搭配的离子源.
伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.
若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:
上海伯东: 罗先生 台湾伯东: 王女士
T: +86-21-5046-1322 T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490 F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076 M: +886-939-653-958
ec@hakuto-vacuum.cn ec@hakuto.com.tw
www.hakuto-china.cn www.hakuto-vacuum.com.tw
伯东版权所有, 翻拷必究!
