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KRI 考夫曼射频离子源 RFCIP220 辅助溅射制备 LaF3 薄膜
KRI 考夫曼射频离子源 RFCIP220 辅助溅射制备 LaF3 薄膜
产品价格:¥11
上架日期:2020-12-25 16:09:50
产地:美国
发货地:本地至全国
供应数量:不限
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详细说明

    因此某光学薄膜制造商采用20cm 的溅射源为 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 辅助溅射制备 LaF3 薄膜

     

    伯东 KRI 射频离子源 RFICP220 技术参数:

    离子源型号

    RFICP220

    Discharge

    RFICP 射频

    离子束流

    >800 mA

    离子动能

    100-1200 V

    栅极直径

    20 cm Φ

    离子束

    聚焦平行散射

    流量

    10-40 sccm

    通气

    Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

    典型压力

    < 0.5m Torr

    长度

    30 cm

    直径

    41 cm

    中和器

    LFN 2000

    可选灯丝中和器可变长度的增量

    KRI 射频离子源 RFICP 220

    运行结果:

    1. 采用 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 镀制的 LaF3 薄膜折射率更高且不存在折射率的梯度分布

    2. 制备的 LaF3薄膜的环境稳定性更高

    3. 离子源溅射制备的减反膜透过率为99.2%反射率为 0.1%表现了较好的光学特性

     

    伯东是德国 Pfeiffer 真空泵检漏仪质谱仪真空计美国 KRI 考夫曼离子源美国HVA 真空阀门美国 inTEST 高低温冲击测试机美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.

     

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