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KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 用于铝表面溅射沉积 ZrN 薄膜
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 用于铝表面溅射沉积 ZrN 薄膜
产品价格:¥11
上架日期:2021-01-12 15:38:36
产地:美国
发货地:本地至全国
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详细说明

    河北某大学研究室为了研究磁控溅射时间和氮气流量对 ZrN 薄膜色度的影响采用 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 辅助在铝表面溅射沉积ZrN 薄膜

     

    KRI 射频离子源 RFICP380 技术参数:

    射频离子源型号

    RFICP380

    Discharge 阳极

    射频 RFICP

    离子束流

    >1500 mA

    离子动能

    100-1200 V

    栅极直径

    30 cm Φ

    离子束

    聚焦平行散射

    流量

    15-50 sccm

    通气

    Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

    典型压力

    < 0.5m Torr

    长度

    39 cm

    直径

    59 cm

    中和器

    LFN 2000

     

    KRI 离子源的独特功能实现了更好的性能增强的可靠性和新颖的材料工艺. KRI 离子源已经获得了理想的薄膜和表面特性而这些特性在不使用 KRI 离子源技术的情况下是无法实现的.

     

    试验结论:

    随着磁控溅射时间的增长薄膜的亮度在减少黄蓝值在 3 min时出现最大值说明镀膜时间在 3 min 时最接近黄色红绿值波动比较大而氮气流量在 13~18 sccm 薄膜颜色呈金黄色.

     

    伯东是德国 Pfeiffer 真空泵检漏仪质谱仪真空计美国 KRI 考夫曼离子源美国HVA 真空阀门美国 inTEST 高低温冲击测试机美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.

     

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