美国PIE台式等离子清洗机Tergeo-Plus科研用详细介绍

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一、Tergeo系列等离子清洗机应用
等离子清洗机清除样品表面的污染物，去除光阻胶：产生表面活性功能组；
清洗提高材料表面亲水性及疏水性，清洗生物芯片、微流控芯片，PDMS；
表面活化：渲染表面的亲水性或疏水性，键合和沉积前的表面预处理
表面聚合：沉积带官能分子团的聚合物，移植聚合物到活化后的材料表面；
表面改性：在材料表面产生官能分子团，高分子材料表面修饰；
去除表面残留微生物，医疗器械的消毒和【详细说明】
二、Tergeo系列等离子清洗机的特点
1、13.56MHz高频射频发生器；
2、7英寸触摸屏控制界面，全自动操作；
3、标配75W版本，可选150W版本；
4、系统具有双等离子源。浸入式等离子源用于主动表面处理、光刻胶蚀刻。远程式等离子源用于温和的污染清除以及脆弱易损样品的表面活化。

三、技术参数
1、控制系统
1）操作界面：7英寸电阻触摸屏操作界面，支持多种工作方式。
2）程序控制：可编程，总共有20个程序，每个程序有3个清洁步骤。
2、反应腔体
1）腔体材质：圆柱形石英玻璃舱；
2）腔体容积：5.6L；
3）腔体尺寸：内径：160毫米，深度：280毫米。
3、射频电源
1）射频频率：13.56MHz；
2）射频功率：标配0~75W；从0瓦到75瓦之间以1瓦间距连续可调，可选0~150W
4、等离子源
1）等离子强度探测器实时测量等离子源强度。
2）外置电极设计，高压电极不合等离子接触以避免金属溅射造成的样品污染。
5、气体控制
1）气路控制：标配一路MFC；可选配三路MFC；
2）质量流量计可以在0~100sccm之间 控制气体流量；
3）一路(Ventingandpurging)气体入口用来快速给样品室放气和冲走残余处 体。