产品参数 | |||
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品牌 | 华诺激光 | ||
加工周期 | 3-5天 | ||
适用工件 | 蒸镀掩膜版、科研实验掩膜版、金属MASK、金属遮罩、叉指电极掩膜版 | ||
加工定制 | 是 | ||
自动化程度 | 全自动 | ||
年最大加工能力 | 999999 | ||
产品材质 | 不锈钢、铜、铝、钼、钛合金 | ||
加工精度 | ±10um | ||
打样周期 | 1-3天 | ||
加工厚度 | 0.05-2.5mm | ||
产地 | 北京天津 | ||
设备类型 | 皮秒、飞秒 | ||
售卖地 | 全国 | ||
可售卖地 | 北京;天津;河北;山西;内蒙古;辽宁;吉林;黑龙江;上海;江苏;浙江;安徽;福建;江西;山东;河南;湖北;湖南;广东;广西;海南;重庆;四川;陕西;甘肃 | ||
用途 | 掩膜板加工 | ||
型号 | CN2303271096 |
掩膜版根据基板材质的不同可分为石英掩膜版、苏打掩膜版和其他(包含凸版、菲林)。石英掩膜版使用 石英玻璃作为基板材料,光学透过率高,热膨胀率低,相比苏打玻璃更为平整耐磨,使用寿命长,主要用于高 精度掩膜版,苏打掩膜版则使用苏打玻璃作为基板材料,光学透过率较高,热膨胀率相对高于石英玻璃,平整度和耐磨性相对弱于石英玻璃,主要用于中低精度掩膜版;而凸版使用不饱和聚丁二烯树脂作为基板材料,主要用于液晶显示器(LCD)制造过程中的定向材料移印;菲林使用 PET 作为基板材料,主要用于电路板掩膜。
掩膜版的功能类似于传统照相机的底片。制造商通常根据客户所需要的图形,用光刻机在原材料上光刻出 相应的图形,将不需要的金属层和胶层洗去,即得到掩膜版。掩膜版的原材料掩膜版基板是制作微细光掩膜图形的感光空白板。通过光刻制版工艺,将微米级和纳米级的精细图案刻制于基板上制作成掩膜版。掩膜版的作 用主要体现为利用已设计好的图案,通过透光与非透光方式进行图像(电路图形)复制,从而实现批量生产。