| 产品参数 | |||
|---|---|---|---|
| 品牌 | 鑫有研 | ||
| 是否支持加工定制 | 否 | ||
| 是否进口 | 否 | ||
| LCD显示更新 | LED | ||
| 安装方式 | 指导 | ||
| 包装规格 | 标准 | ||
| 可售卖地 | 全国 | ||
净化匀胶显影机是适合半导体硅片的匀胶镀膜等其用途广泛包括适合半导体大型晶圆硅片,芯片,晶片,等各种胶体的工艺制版表面涂覆或光刻工艺匀胶。是集成电路及半导体件生产过程中涂复光致抗腐蚀剂的专用设备
设备中涂胶部分四个工位单片微型机控制四个工位同时工作或分别工作，即各工位的运转单独传动，转数单独调节及单独显示。
为保证在涂胶工艺中不飞片，设备中吸头和气泵中间有四个电磁阀，同时增加一个负压储气罐，保证了吸片牢固和可靠性。
设备中配有专用的空气净化装置。
主要技术指标：
主要技术指标
显影工位： 一个操作工位
程序时间： 显影1—99秒 漂洗1—99秒 干燥1—99秒
旋转器转数： 500—8000转/分（连续可调）
硅片直径： Φ30—Φ75mm
净化效果：美国联邦标准100级净化
