江苏半导体厂异味废气治理方法15720490002 王经理

       半导体废气处理设备厂家光催化氧化技术是在光化学氧化技术的基础上发展起来的。光化学氧化技术是在可见光或紫外光作用下使有机污染物氧化降解的反应过程。半导体厂废气处理方法 半导体厂异味治理设备

      但由于反应条件所限，光化学氧化降解往往不够彻底，易产生多种芳香族有机中间体，成为光化学氧化需要克服的问题，而通过和光催化氧化剂的结合，可以大大提高光化学氧的效率。根据光催化氧化剂使用的不同，可以分为均相光催化氧化和非均相光催化氧化。{句子}均相光催化降解是以Fe2+或Fe3+及H2O2为介质，通过光助 - 芬顿反应产生羟基#基使污染物得到降解。紫外光线可以提高氧化反应的效果，是一种有效的催化剂。

        紫外/臭氧(UV/03)组合是通过加速臭氧分解速率，提高羟基#基的生成速度，并促使有机物形成大量活化分子，来提高难降解有机污染物的处理效率。非均相光催化降解是利用光照射某些具有能带结构的半导体光催化剂如TiO2、ZnO、CdS、WO3、SrTiO3、Fe2O3等，可诱发产生羟基#基。在水溶液中，水分子在半导体光催化剂的作用下，产生氧化能力极强的羟基#基，可以氧化分解各种有机物。把这项技术应用于POPs的处理，可以取得良好的效果，但是并不是所有的半导体材料都可以用作这项技术的催化剂，比如CdS是一种高活性的半导体光催化剂，但是它容易发生光阳极腐蚀，在实际处理技术中不太实用。而TiO2可使用的波长#高可达387.5nm，价格便宜，多数条件下不溶解，耐光，无#性，因此TiO2得到了广泛的应用。江苏半导体厂异味废气治理方法