|
设备名称： |
半自动显影清洗机 |
|
适应工件： |
2～8寸晶圆片清洗 |
|
批量产能： |
8寸25PCS/批 |
|
工艺流程： |
QDR←显影→QDR←显影→QDR |
|
工艺槽功能： |
循环过滤+加热冷却+上下抖动+硅片滚动 |
|
主要材料： |
金属骨架+PVC/PPW壳板，槽体采用PPN/PVDF材质 |
|
运送方式： |
手动传送 |
|
节拍时间： |
依工艺5～15min可调 |
|
其他说明： |
此设备可根据客户要求定制全自动显影机 |
